La deposizione chimica da vapore potenziata dal plasma (PECVD) è un processo chimico di deposizione di film sottili, i reagenti, in stato gassoso (vapore)...
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Film sottile (category Chimica dello stato solido)
non richiedano alte prestazioni. Deposizione chimica da vapore potenziata dal plasma (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) in questa tecnica il...
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Nitruro di boro (category P274 letta da Wikidata)
usati anche la deposizione di fasci ionici, la deposizione chimica da vapore potenziata dal plasma, deposizione laser pulsata, deposizione da polverizzazione...
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Nitruro di silicio (category P231 letta da Wikidata)
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Ossido di zirconio (category P231 letta da Wikidata)
impiegata nella deposizione di rivestimenti ottici. In tali applicazioni, è tipicamente depositato mediante deposizione fisica da vapore. La zirconia è...
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Specie di Star Trek (category Voci con template Collegamenti esterni senza dati da Wikidata)
missione solitaria a bordo della navetta Galileo e naufragato sul pianeta. Il plasma della navetta ha contaminato una grotta ricoperta di cristalli di dilitio...
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