Файл:Ion implanter schematic.png — Вікіпедія

Ion_implanter_schematic.png (500 × 486 пікселів, розмір файлу: 32 КБ, MIME-тип: image/png)

Опис файлу

Опис
English: Schematics of an mass separating implantation/deposition setup. Ion energy at the substrate is determined by the difference of Uaccell and Udecell. Image created using Tgif.
Час створення
Джерело Власна робота
Автор Daniel Schwen
Інші версії
Є векторний варіант цього зображення (SVG).
Його слід використовувати замість цієї растрової версії для більш якісного відображення.

File:Ion implanter schematic.png → File:Ion implanter schematic.svg

Щоб дізнатися більше про векторну графіку, прочитайте статтю «Перетворення зображень у формат SVG».
Також доступна інформація про підтримку формату SVG у MediaWiki.

На інших мовах
Alemannisch  العربية  беларуская (тарашкевіца)  български  বাংলা  català  нохчийн  čeština  dansk  Deutsch  Ελληνικά  English  British English  Esperanto  español  eesti  euskara  فارسی  suomi  français  Frysk  galego  Alemannisch  עברית  hrvatski  magyar  հայերեն  Bahasa Indonesia  Ido  italiano  日本語  ქართული  한국어  lietuvių  македонски  മലയാളം  Bahasa Melayu  norsk bokmål  Plattdüütsch  Nederlands  norsk nynorsk  norsk  occitan  polski  prūsiskan  português  português do Brasil  română  русский  sicilianu  Scots  slovenčina  slovenščina  српски / srpski  svenska  தமிழ்  ไทย  Türkçe  татарча / tatarça  українська  vèneto  Tiếng Việt  中文  中文(中国大陆)  中文(简体)  中文(繁體)  中文(马来西亚)  中文(新加坡)  中文(臺灣)  中文(臺灣)  +/−
Нове зображення

This image (or all images in this category) uses inside labels or attached captions in a specific script or language and should be converted to a language neutral form. This would allow its use in all Wikimedia projects and, more importantly, all Wikimedia languages.

Bahasa Melayu  català  čeština  Deutsch  English  español  français  italiano  magyar  Nederlands  Plattdüütsch  português  sicilianu  slovenčina  suomi  беларуская (тарашкевіца)‎  македонски  русский  српски / srpski  한국어  日本語  中文  中文(简体)‎  فارسی  +/−

Ліцензування

GNU head Дозволяється копіювати, розповсюджувати та/або модифікувати цей документ на умовах ліцензії GNU FDL версії 1.2 або більш пізньої, виданої Фондом вільного програмного забезпечення, без незмінних розділів, без текстів, які розміщені на першій та останній обкладинці. Копія ліцензії знаходиться у розділі GNU Free Documentation License.
w:uk:Creative Commons
зазначення авторства поширення на тих же умовах
Цей файл ліцензований на умовах ліцензії Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0 Unported
Ви можете вільно:
  • ділитися – копіювати, поширювати і передавати твір
  • модифікувати – переробляти твір
При дотриманні таких умов:
  • зазначення авторства – Ви повинні вказати авторство, надати посилання на ліцензію і вказати, чи якісь зміни було внесено до оригінального твору. Ви можете зробити це в будь-який розсудливий спосіб, але так, щоб він жодним чином не натякав на те, наче ліцензіар підтримує Вас чи Ваш спосіб використання твору.
  • поширення на тих же умовах – Якщо ви змінюєте, перетворюєте або створюєте іншу похідну роботу на основі цього твору, ви можете поширювати отриманий у результаті твір тільки на умовах такої ж або сумісної ліцензії.
Цей шаблон ліцензування був доданий до файлу в рамках оновлення ліцензії GFDL.

Підписи

Додайте однорядкове пояснення, що саме репрезентує цей файл

Об'єкти, показані на цьому файлі

зображує

Історія файлу

Клацніть на дату/час, щоб переглянути, як тоді виглядав файл.

Дата/часМініатюраРозмір об'єктаКористувачКоментар
поточний21:48, 3 липня 2005Мініатюра для версії від 21:48, 3 липня 2005500 × 486 (32 КБ)DschwenSchematics of an mass separating en:ion implantationimplantation/deposition setup. Ion energy at the substrate is determined by the difference of U<sub>accell</sub> and U<sub>decell</sub>. Image created by user:Dschwen u

Така сторінка використовує цей файл:

Глобальне використання файлу

Цей файл використовують такі інші вікі: