鰭式場效電晶體 - 维基百科，自由的百科全书

FinFET器件

鰭式場效電晶體[1]（英語：Fin Field-Effect Transistor，簡稱：FinFET），是一种新的互补式金氧半导体晶体管，可以改善电路控制并减少漏电流，缩短晶体管的闸长。[2]FinFET是一种立体的场效应管，屬於多閘極電晶體。

当晶体管的尺寸小于25纳米以下，传统的平面场效应管的尺寸已经无法缩小。FinFET的主要思想是将场效应管立体化。

2011年，英特尔已经推出商业化的22纳米FinFET。[3]

在2018年2月开始，中国科学院微电子研究所就该技术涉及该所的部分专利对英特尔提出侵权诉讼，而英特尔多次反制，向中美两国的知识产权管理部门申请专利无效审议或复审，但均告失败，2020年7月28日，国家知识产权局口头受理了该次申请无效审议。[4]

参考资料

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  1. ^ 存档副本. [2023-02-06]. （原始内容存档于2023-02-06）. 
  2. ^ 中芯国际集成电路制造有限公司首次公开发行人民币普通股（A股）股票并在科创板上市招股说明书 (PDF). 上海交易所科创板. [2020-06-03]. （原始内容存档 (PDF)于2020-06-03）. 
  3. ^ Wen-Chin Lee， Kedzierski, J. ，Takeuchi, H. ，Asano, K. ，Kuo, C. ， Anderson, E.， Tsu-Jae King，Bokor, J. ， Chenming Hu．FinFET-a self-aligned double-gate MOSFET scalable to 20 nm：IEEE Transactions on Electron Devices，2000：2320 - 2325
  4. ^ cnBeta. 英特尔被控侵犯中科院微电子所FinFET专利 赔偿或超2亿元 - Intel 英特尔. cnBeta.COM. [2020-08-11]. （原始内容存档于2020-08-08） （中文（中国大陆））. 
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