600纳米制程 - 维基百科，自由的百科全书

半导体器件制造
金屬氧化物半導體場效電晶體
010 µm – 1971 006 µm – 1974 003 µm – 1977  1.5 µm – 1981 001 µm – 1984 800 nm – 1987 600 nm – 1990 350 nm – 1993 250 nm – 1996 180 nm – 1999 130 nm – 2001 090 nm – 2003 065 nm – 2005 045 nm – 2007 032 nm – 2009 022 nm – 2012 014 nm – 2014 010 nm – 2016 007 nm – 2018 005 nm – 2020 003 nm – 2022
未來 002 nm ~ 2024
晶體管數量 互補式金屬氧化物半導體 半导体器件（多閘極電晶體） 摩尔定律 晶體管數量 半导体 半导体产业 纳电子学
查 论 编

600纳米制程，又稱0.6微米製程，是半导体制造制程的一个水平，大约于1994年至1995年左右达成。^[1][2] 这一制程由当时领先的半导体公司如英特尔和IBM所完成。

• 于1989年推出的Intel 80486DX4 CPU使用这个制程。
• IBM/摩托罗拉 PowerPC 601 I
• 英特尔奔腾（Intel Pentium）处理器，具有75M赫兹、90M赫兹和100M赫兹。